半導體是介于導體和絕緣體之間的一種材料。對水的要求特別高，水不應含有離子雜質(zhì)。因此，半導體工業(yè)通常需要使用超純水設備。
超純水設備主要由預處理、兩段反滲透、EDI模塊和后處理裝置組成。生產(chǎn)出來的水要求電阻率要大于18兆歐才能滿足半導體加工的用水需求。反滲透系統(tǒng)是超純水設備預脫鹽的核心部分。反滲透處理后的水可以去除大部分無機鹽和微生物。原理是在壓力的作用下，水分子通過。
滲濾膜變成純水，反滲透膜截留和排出水中的雜質(zhì)。反滲透是目前一種先進的節(jié)能脫鹽方法.反滲透法主要用于去除水中溶解的鹽、離子、小分子顆粒、有機物、細菌、病毒、放射性離子等雜質(zhì)。除鹽率一般在98%以上。
EDI裝置結(jié)合了電滲析和離子交換的優(yōu)點，克服了電滲析和離子交換的缺點。EDI超純水處理工藝運行穩(wěn)定，有效地延長了EDI的使用壽命，降低了用戶的運行成本。對DC有效。
在電場作用下，電解質(zhì)在離子交換膜上有選擇性遷移。陰離子交換樹脂用于在水中交換電解質(zhì)，形成“離子通道”。對水在離子交換樹脂界面極化產(chǎn)生的H+和OH-進行了電化學再生。
超純水設備具有操作成本低、自動化程度高、經(jīng)濟效益好等優(yōu)點。該工藝具有先進、成熟、出水水質(zhì)穩(wěn)定、系統(tǒng)運行穩(wěn)定等特點。適用于半導體行業(yè)：半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路、液晶顯示屏、pdp等離子顯示。
屏幕、高質(zhì)量顯像管、熒光粉生產(chǎn)、半導體材料、晶體元件材料的生產(chǎn)、加工、清洗、超純材料和超純化學試劑、超純化學材料、實驗室和中試車間、汽車和家用電器表面拋光處理、光電子產(chǎn)品、其他高科技精細產(chǎn)品等。
